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电子光学行业生产用水,如半导体、集成电路芯片及封装用水、电子试剂用水,电子管涂敷配液用水、液晶显示器屏面清洗用水、硅片清洗用水、光学镜片清洗用水、各种高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模集成电路等生产用水需求。既将水中的导电介质几乎完全去除,水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水称为超纯水,我国电子工业部将电子工业用水划分为四级用水标准(18MΩ/CM、15MΩ/CM、12MΩ/CM、0.5MΩ/CM),奥克恩环保工程采用采用当今最先进的双级反渗透纯化水处理技术+EDI模块化设计,原水通过一、二级反渗透系统去除各种盐份及杂质,再经过EDI系统对反渗透产水高度净化,使水质提高。此电子行业EDI超纯水设备不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水,系统工艺先进、水质稳定、自动化程度高、操作简便、占地少、运行费用低、绿色环保、维护方便,处理后可生产出水电阻率可达到18.2兆欧及以上的超纯水。

一、 分类标记:
    I级电子级水标记为:EW-I;
    II级电子级水标记为:EW-Ⅱ;
    III级电子级水标记为:EW-Ⅲ;
    Ⅳ级电子级水标记为:EW-Ⅳ;

二、 级别指标:


 

级别指标

 

EW-I

 

EW-Ⅱ

 

EW-Ⅲ

 

EW-Ⅳ

电阻率

MΩ﹒cm(25℃)

18以上

(95N时间)

不低于17

15

(95N时间)

不低于13

 

12.0

 

 

0.5

 

全硅,最大值,µg/L

2

10

50

1000

>1µm微粒数,最大值,个/mL

0.01

5

10

500

细菌个数,最大值,个/mL

0.01

0.1

10

100

铜,最大值,µg /L

0.2

1

2

500

锌,最大值,ug/L

0.2

1

5

500

镍,最大值.µg/L

0.1

1

2

500

钠.最大值,µg /L

0.5

2

5

1000

钾,最大值.ug/L

0.5

2

5

500

氯,最大值.ug/L

l

l

10

1000

硝酸根,最大值,ug/L

1

1

5

500

磷酸根,最大值.ug/L

1

1

5

500

硫酸根,最大值, ug/L

1

1

5

500

总有机碳,最大值,ug/L

20

100

200

1000

 

三、 常用工艺:
(1)预处理+一级反渗透+二级反渗透
(2)预处理+一级反渗透+EDI设备
(3)预处理+一级反渗透+二级反渗透+EDI设备+核能混床





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